1 实验部分
实验所用其它设备包括600 W超声清洗机(浙 江博凡动力)、高温鼓风干燥箱(上海一恒仪器)、XMET 7500手持式X射线荧光仪(英国牛津仪器)。将石墨样片进行预处理,包括打磨、超声清洗和 烘烤三部分。对样片表面进行打磨后,置于去离子 水中进行超声清洗15 min,烘烤数小时得到初始样 片。通过将一定量镉废液滴加于样片表面和将样片 置于镉废液中浸泡一定时长两种方式,经反复高温 烘烤得到两种不同的模拟放射性沾污实验样片。
2 结果与讨论
干法去污为热等离子体直接对石墨样片进行去 污处理,表面污染微粒或石墨基体吸收能量后产生 热膨胀,其中微粒主要通过热扩散、分解、气化等方 式脱离石墨表面,同时石墨基材由于热膨胀作用会 导致表层的剥离 。输出电流为50 A时,石墨样 片表面的剥离程度最大,最大剥离厚度达到57 μm。 输出电流60 A时具有最佳的去污率,其剥离厚度小 于50 A,其原因在于表面孔隙和裂纹会加速热等离 子体的剥离作用,而60 A处理样片的表面孔隙和裂 纹较少。因此,可在较小的剥离厚度下便可得到较 大的去污率。
3 结论
干法去污的去污率和剥离厚度都随着输出电 流和去污时间的增大而增大,其中浸泡式样片由于 具有更高的沾污程度,其去污率小于同等条件下的 滴加式样片,且剥离厚度更大。湿法去污在干法去污的基础上,增加了水膜 剧烈汽化产生的推离作用,在同等条件下大大提高 了热等离子体的去污能力。
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